2025-06-19 08:00:01 10次浏览
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物理性质
熔点与沸点:熔点为 156.6 ℃,沸点为 2075 ℃。
可塑性与延展性:具有优良的可塑性、延展性,能够无限制任意变形、压成极薄的金属片。
导电性与导热性:导电性约为铜的 1/5,热膨胀系数几乎超过铜的一倍。
其他:在氢气或真空中加热铟会发生升华,熔化的铟能够润湿干净的玻璃,还具有超导性能、润滑性能、耐磨性能、光透性。
化学性质
与单质反应:铟在空气中稳定,加热到熔点以上会氧化成 In₂O₃;能与硫在高温加热的条件下反应,生成 InS 或 In₂S₃;室温下能与氟、氯、溴反应生成 InF₃、InCl₃、InBr₃,加热条件下与碘蒸气发生反应;能与氮气在高温下反应;也能与钍、铌、铂等金属发生反应。
与无机化合物反应:铟能与盐酸、稀高氯酸、稀硝酸等反应生成对应的盐和氢气,与浓硝酸在加热的条件下反应生成硝酸铟、二氧化氮和水;能与过量的氢氧化钠、氢氧化钾反应;还能与氯化铟、溴化汞、硫化铟、三氧化铟等卤化物发生反应。
与有机化合物反应:铟能与烷基氯、烷基溴、烷基碘以及十羰基合二锰等有机化合物反应。
半导体材料
化合物半导体:
磷化铟(InP):用于制造 5G 基站的射频器件、激光雷达(LiDAR)的发射器、光纤通信中的激光器和探测器,是光电子和高频电子领域的核心材料。
砷化铟(InAs)、锑化铟(InSb):用于红外探测器、量子计算元件和高速集成电路。
集成电路封装:
铟焊料(如铟 - 锡合金)因低熔点(约 156℃)、高可靠性和抗腐蚀性,用于芯片与基板的连接(如倒装芯片技术),尤其在航空航天和军工领域不可替代。
半导体与微电子工业
化合物半导体材料
磷化铟(InP)单晶衬底:
精铟是制备 InP 晶圆的核心原料,用于生产 5G 基站的射频芯片(如 HEMTs 高电子迁移率晶体管)、光纤通信的激光器(如 1.55μm 波段 DFB 激光器)和量子点发光器件(QLED)。
应用场景:5G 通信、数据中心光模块、自动驾驶激光雷达(LiDAR)。
砷化铟(InAs)/ 锑化铟(InSb):
用于红外探测器(如军用夜视仪、卫星热成像)和拓扑量子计算元件。