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广州ito铟靶材高价回收,快速上门,付现交易

2025-08-05 08:46:01 3次浏览

价 格:面议

集成电路(IC)制造

用途:作为金属互连层或接触电极材料,用于芯片内部的导电线路、晶体管电极等关键部位。

优势:铟的低熔点和高延展性使其易于加工成极薄的薄膜,满足纳米级制程对材料精度的要求。

存储环境控制

温湿度:存储于干燥、恒温环境(温度 15~25℃,湿度≤40% RH),避免铟靶吸潮氧化(铟在潮湿空气中易生成 In₂O₃薄膜,影响溅射效率)。

防尘防潮:用铝箔或真空袋密封包装,存放于洁净柜中,防止灰尘附着或与其他化学物质接触。

溅射气体控制

气体纯度:使用高纯氩气(99.999% 以上),避免氧气、水汽混入导致铟靶氧化(氧化铟导电性下降,易形成电弧放电)。

气压调节:

直流溅射(DC):气压通常为 0.1~10 Pa,低气压下溅射速率高但薄膜致密度低;高气压下薄膜均匀性好但沉积速率慢。

射频溅射(RF):适用于绝缘基底,气压可略高于直流溅射,需根据薄膜厚度要求动态调整。

广东省锦鑫贵金属回收冶炼有限公司是一家规模较大、资金雄厚的贵金属物资回收公司。面向全国,与各界冶炼厂,矿山厂,电镀厂,电子厂,首饰厂,印刷厂,石油化工等长期合作。

被浏览过 1505586 次    版权所有:广东省锦鑫贵金属回收冶炼有限公司(ID:35180840) 颜艳珍

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